인
프
라
기체이온주입장
조사 시스템
양의 기체이온을 가속한 뒤 시료 표면에 주입함으로써 물질의 고유 특성은 유지하면서 표면 특성만을 변화시키는 장치
주요 사양
이온원 이온빔인출빔 인출에너지 0~20 keV
가속관 이온빔 가속에너지 0~280 keV
빔 전류 5 mA [N+ 기준]
빔 조사 면적(mm) 150×150 [균일도 ±10% 이내]
이온 종류 H, He, N, Ar, Kr, Xe, Ne 등
주요 기능 및 활용 범위
산업 고분자 표면 개질, 표면 세정, 초강력 코팅 증착 등
광학 광필름 증착, 광재료 개질 등
재료 기능성 재료 개발, 기계적 성질 개선, 필름 표면의 강도 변화 등
전자 반도체 처리, 전기전자 재료 이온 주입 등
감마파이토트
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